61、以下無牙頜印模范圍的要求，哪項不正確

　　A、包括整個牙槽嵴

　　B、邊緣伸展到唇頰舌溝

　　C、上頜后緣伸展到腭小凹處

　　D、上頜后緣伸展與后顫動線一致

　　E、上頜兩側(cè)后緣伸展到翼上頜切跡

　　62、制取全口義齒印模，以下敘述哪項不正確

　　A、使組織受壓均勻

　　B、適當(dāng)伸展印模范圍

　　C、采取解剖式印模

　　D、保持穩(wěn)定的位置

　　E、做肌功能修正

　　63、上頜后堤區(qū)的寬度

　　A、1～5mm

　　B、2～7mm

　　C、2～10mm

　　D、2～12mm

　　E、以上都不對

　　64、全口義齒修復(fù)中，對大氣壓力固位影響最大的是

　　A、取印模

　　B、垂直距離確定

　　C、正中關(guān)系確定

　　D、排牙

　　E、調(diào)(牙合)

　　65、全口義齒合適的磨光面可以

　　A、有助于義齒的穩(wěn)定

　　B、避免咬頰咬舌

　　C、提高咀嚼效率

　　D、使發(fā)音清楚

　　E、增加面頰部豐滿度

　　66、頜間距離

　　A、正中(牙合)位時鼻底到頦底的距離

　　B、息止頜位時鼻底到頦底的距離

　　C、正中(牙合)位時，上下牙槽嵴頂之間的距離

　　D、息止頜位時，上下牙槽嵴頂之間的距離

　　E、前伸時，上下牙槽嵴頂之間的距離

　　67、全口義齒作側(cè)方咬合時，工作側(cè)不接觸，平衡側(cè)接觸，應(yīng)調(diào)整

　　A、增大補(bǔ)償曲線曲度

　　B、增大橫(牙合)曲線

　　C、減小補(bǔ)償曲線曲度

　　D、減小橫(牙合)曲線

　　E、以上均不對

　　68、全口義齒基托與唾液或黏膜與唾液之間產(chǎn)生的力稱為

　　A、大氣壓力

　　B、黏著力

　　C、附著力

　　D、摩擦力

　　E、內(nèi)阻力

　　69、上下牙按常規(guī)排列，其切緣與牙尖頂與平面的關(guān)系是

　　A、上頜1│1切緣落在(牙合)平面上

　　B、上頜2│2切緣離開(牙合)平面1mm

　　C、上頜3│3牙尖接觸(牙合)平面

　　D、下頜1│1切緣或牙尖頂均高于(牙合)平面1mm

　　E、以上都對

　　70、腭小凹位于

　　A、切牙乳突前方

　　B、腭皺與切牙乳突之間

　　C、腭皺后方

　　D、上頜牙槽嵴后緣

　　E、上腭中縫后部的兩側(cè)，軟硬腭連接處的稍后方

　　71、戴全口義齒靜止時固位好，吃飯時脫位，怎樣處理

　　A、加強(qiáng)基托后緣封閉

　　B、磨改基托邊緣

　　C、調(diào)(牙合)選磨

　　D、基托襯墊

　　E、加高垂直距離

　　72、上頜義齒遠(yuǎn)中游離端基托后緣的兩側(cè)應(yīng)伸展到

　　A、磨牙后墊

　　B、上頜結(jié)節(jié)

　　C、翼上頜切跡

　　D、腭小凹

　　E、軟硬腭交界稍后的軟腭上

　　73、(牙合)位記錄記錄了

　　A、下頜后退記錄

　　B、面下1/3高度的記錄

　　C、垂直距離和下頜側(cè)方(牙合)記錄

　　D、垂直距離和下頜前伸(牙合)記錄

　　E、垂直距離和正中關(guān)系記錄

　　74、按照無牙頜組織結(jié)構(gòu)特點，磨牙后墊屬于

　　A、主承托區(qū)

　　B、副承托區(qū)

　　C、邊緣封閉區(qū)

　　D、緩沖區(qū)

　　E、后堤區(qū)

　　75、對關(guān)于正中關(guān)系的描述正確的是

　　A、又稱正中(牙合)

　　B、亦稱正中關(guān)系(牙合)

　　C、亦稱牙尖交錯(牙合)

　　D、髁突位于關(guān)節(jié)窩中部

　　E、是一個穩(wěn)定可重復(fù)的位置

　　76、全口義齒試戴需檢查的內(nèi)容為

　　A、咬關(guān)系

　　B、義齒的穩(wěn)定和固位

　　C、發(fā)音及面容協(xié)調(diào)

　　D、垂直距離

　　E、以上都是

　　77、以下關(guān)于后堤區(qū)的描述，哪項是錯誤的

　　A、后緣位于后顫動線之前

　　B、前緣位于前顫動線

　　C、后堤區(qū)平均寬8mm

　　D、黏膜彈性較差

　　E、后堤區(qū)有利于邊緣封閉

　　78、與全口義齒后緣有關(guān)的解剖標(biāo)志不包括

　　A、腭小凹

　　B、顫動線

　　C、上頜結(jié)節(jié)

　　D、磨牙后墊

　　E、翼上頜切跡

　　79、全口義齒修復(fù)哪一個部位不需要緩沖

　　A、下頜隆突

　　B、顴突

　　C、翼上頜切跡

　　D、切牙乳頭

　　E、上頜硬區(qū)

　　80、下頜義齒基托需要緩沖的地方有

　　A、舌系帶

　　B、P切跡

　　C、磨牙后墊

　　D、下頜隆突

　　E、舌側(cè)翼緣區(qū)

　　81、目前，覆蓋式全口種植義齒在臨床上應(yīng)用最廣泛的附著體是

　　A、雙層冠附著體

　　B、桿卡式附著體

　　C、球類附著體

　　D、磁性附著體

　　E、栓道附著體