41、關(guān)于全口義齒(牙合)平面位置測(cè)定下列哪一項(xiàng)是錯(cuò)誤的
A、與瞳孔連線平行
B、與鼻翼耳屏連線平行
C、與下頜兩側(cè)牙槽嵴平行
D、平分(牙合)間距離
E、在上唇下緣以下2mm
42、全口義齒的前牙排列成淺覆(牙合)淺覆蓋的原因
A、美觀要求
B、功能要求
C、排牙方便
D、取得前伸(牙合)平衡
E、發(fā)音清楚
43、全口義齒長(zhǎng)期使用后引起髁突后移,并出現(xiàn)顳頜關(guān)節(jié)病癥狀,其原因可能是
A、人工牙磨耗,垂直距離降低
B、前伸(牙合)不平衡
C、義齒固位不良
D、咬合壓力過(guò)大
E、以上均選
44、全口義齒選磨時(shí),正中(牙合)一側(cè)上頜舌尖早期接觸,側(cè)方(牙合)沒(méi)有早接觸,則應(yīng)選磨
A、上頜舌尖
B、下頜舌尖
C、上頜頰尖
D、下頜頰尖
E、下頜中央窩
45、吸附力作用與那個(gè)因素關(guān)系最密切
A、基托面積
B、牙槽嵴形態(tài)
C、基托與黏膜間的密合程度
D、唾液質(zhì)量
E、黏膜厚度
46、全口義齒的(牙合)平面平分(牙合)間距離主要是為了
A、防止人工牙和基托的折斷
B、增強(qiáng)基托的吸附力作用
C、防止(牙合)位前伸
D、加強(qiáng)義齒的穩(wěn)定性
E、獲得正確的垂直距離
47、無(wú)牙頜患者下頜處于正中關(guān)系位時(shí),上下頜牙槽嵴頂之間的距離稱為
A、開(kāi)口度
B、息止(牙合)間隙
C、垂直距離
D、頜間距離
E、覆(牙合)
48、上頜義齒基托不需要緩沖的部位
A、切牙乳突
B、顴突
C、腭中縫
D、顫動(dòng)線
E、上頜隆突
49、以下措施可以提高全口義齒固位和穩(wěn)定,除了
A、盡量擴(kuò)大基托面積
B、準(zhǔn)確的印模
C、有利的磨光面形態(tài)
D、合理的排牙
E、指導(dǎo)患者使用義齒
50、后堤區(qū)的作用
A、基托后緣定位
B、邊緣封閉作用
C、支持作用
D、排牙標(biāo)志
E、緩沖作用
51、在石膏模型上制作后堤區(qū),最寬處
A、1mm
B、3mm
C、5mm
D、8mm
E、10mm
52、對(duì)全口義齒固位和支持有利的黏膜是
A、厚、松軟
B、厚、韌
C、薄
D、薄、干燥
E、B或D
53、全口義齒應(yīng)拔牙多長(zhǎng)時(shí)間后進(jìn)行
A、1周
B、3周
C、1個(gè)月
D、3個(gè)月
E、6個(gè)月
54、全口義齒固位有關(guān)的因素,下列哪一項(xiàng)是錯(cuò)誤的
A、頜骨的解剖形態(tài)
B、口腔黏膜的性質(zhì)
C、牙槽骨致密程度
D、基托的伸展
E、咬合平衡
55、全口義齒排列時(shí),上頜第二雙尖牙舌尖與(牙合)平面的關(guān)系
A、與(牙合)平面接觸
B、離開(kāi)(牙合)平面0.5mm
C、離開(kāi)(牙合)平面1.0mm
D、離開(kāi)平面1.5mm
E、離開(kāi)(牙合)平面2mm
56、全口義齒人工牙排列時(shí),如果在前伸位,后牙接觸,前牙不接觸,則應(yīng)
A、增加覆蓋或減少覆(牙合)
B、選磨下頜后牙頰尖近中斜面
C、選磨下頜后牙頰尖遠(yuǎn)中斜面
D、增加牙尖工作斜面斜度
E、以上辦法均可
57、全口義齒初戴時(shí)發(fā)現(xiàn)正中(牙合)正常,前伸(牙合)前牙接觸,后牙不接觸,應(yīng)調(diào)磨何處為主
A、上切牙切緣舌斜面
B、上切牙切緣唇斜面
C、上切牙舌窩
D、下切牙唇斜面
E、下切牙切緣舌斜面
58、與全口義齒穩(wěn)定無(wú)關(guān)的是
A、良好的咬合關(guān)系
B、適當(dāng)?shù)幕猩煺?/P>
C、理想的磨光面形態(tài)
D、合理的人工牙排列
E、具有平衡(牙合)
59、與唇頰舌肌作用有關(guān)的是
A、組織面
B、磨光面
C、咬(牙合)面
D、(牙合)平面
E、以上都是
60、對(duì)腭小凹的描述錯(cuò)誤的是
A、位于腭中縫的后部
B、位于軟硬腭交界處的稍后方
C、數(shù)目多為并列的兩個(gè),左右各一
D、上頜義齒的后緣應(yīng)止于腭小凹
E、腭小凹是口內(nèi)黏膜腺導(dǎo)管的開(kāi)口
考試簡(jiǎn)介 報(bào)名條件 報(bào)名方式 報(bào)名時(shí)間 考試時(shí)間 考試科目 考試題型 合格標(biāo)準(zhǔn) 考試機(jī)構(gòu) 證書(shū)注冊(cè) 技能考試 考試用書(shū)