第三章 牙體組織 Tooth Tissue

　　第一節(jié) 釉 質(zhì) enamel

　　概 述(釉質(zhì)名解)覆蓋于牙冠,有保護(hù)作用,最先受齲病侵蝕.,

　　特殊性:是人體 最硬的組織;是全身唯一無(wú)細(xì)胞性,由上皮細(xì)胞分泌繼而礦化的組織.

　　釉質(zhì)的理化特性

　　一、物理特性：厚度;顏色;硬度;高脆性，但其易折性可被降低

　　二、化學(xué)組成

　　重量 體積

　　無(wú)機(jī)物 96~97% 86%

　　有機(jī)物 <1% 2%

　　水 2~3% 12%

　　1. 無(wú)機(jī)物

　　羥磷灰石晶體[Ca10(PO4)6(OH)2]生物磷灰石(不純，含較多HCO3- 和微量元素)

　　耐齲潛能：氟、鎂、鍶等

　　使釉質(zhì)不穩(wěn)定：碳酸鹽、鐵、氯、硒、鋅等

　　2.有機(jī)物:

　　蛋白質(zhì)(釉原蛋白、非釉原蛋白、蛋白酶)、脂類(lèi)

　　(1)釉原蛋白

　　在晶體成核及晶體的生長(zhǎng)方向和速度調(diào)控上起重要作用。

　　性連鎖型釉質(zhì)發(fā)育不全

　　(2)非釉原蛋白

　　硫酸化的酸性糖蛋白，包括釉蛋白、

　　成釉蛋白、釉叢蛋白等，具有較廣泛的促進(jìn)晶體成核和影響晶體生長(zhǎng)形態(tài)的作用。

　　(3)釉基質(zhì)蛋白酶

　　基質(zhì)金屬蛋白酶：在成釉細(xì)胞的分泌期降解牙釉質(zhì)蛋白。

　　絲氨酸蛋白酶：在釉質(zhì)成熟期分解晶體之間的釉原蛋白等基質(zhì)蛋白，為晶體進(jìn)一步生長(zhǎng)提供空間。

　　3. 結(jié)合水：大部分

　　水 (水合層;鈣空位)

　　游離水

　　釉質(zhì)的組織學(xué)結(jié)構(gòu)

　　釉柱

　　與釉柱排列方向相關(guān)的結(jié)構(gòu)

　　釉質(zhì)中有機(jī)物集中之處

　　與釉質(zhì)周期性生長(zhǎng)相關(guān)的結(jié)構(gòu)

　　一、釉 柱 enamel rod

　　(一)概念

　　釉質(zhì)的基本結(jié)構(gòu)，是一種細(xì)長(zhǎng)的柱狀體，起自釉牙本質(zhì)界，呈放散狀貫穿釉質(zhì)全層。路線不是徑直的。

　　(二)分布特點(diǎn)

　　窩溝處：釉質(zhì)由釉牙本質(zhì)界向窩溝底集中。

　　牙頸部：釉柱排列基本呈水平狀。

　　(三)形態(tài)

　　光鏡(磨片)

　　縱斷面：柱狀體;彎曲狀。

　　橫斷面：魚(yú)鱗狀。

　　釉柱間隙：釉柱尾部與相鄰釉柱頭部相交處呈現(xiàn)參差不齊的增寬了的間隙。

　　釉柱鞘(enamel rod sheath) ：釉柱頭部清晰的弧形邊界

　　二、與釉柱排列方向相關(guān)的結(jié)構(gòu)

　　(一)絞釉(gnarled enamel)

　　分布：釉質(zhì)內(nèi)2/3彎曲;牙切緣及牙尖處彎曲更明顯。

　　作用：增強(qiáng)釉質(zhì)對(duì)咬合力的抵抗。

　　(二)施雷格線 (Schreger line)

　　落射光觀察牙縱磨片:可見(jiàn)寬度不等的明暗相間帶.這些明暗帶稱(chēng)為施雷格線 .

　　分布:釉質(zhì)內(nèi)4/5處.

　　原因:釉柱排列方向的規(guī)律性改變而產(chǎn)生的折光現(xiàn)象.

　　暗區(qū)釉柱的橫斷區(qū);

　　亮區(qū)釉柱的縱斷區(qū).

　　(三)無(wú) 釉 柱 釉 質(zhì)(rodless enamal)

　　分布：在近釉牙本質(zhì)界最先形成的釉質(zhì)和多數(shù)乳牙及恒牙表面約30μm處,均看不到釉柱結(jié)構(gòu). 高分辨率電鏡下可見(jiàn)晶體平行排列。

　　原因：內(nèi)層:可能是成釉細(xì)胞在最初分泌釉質(zhì)時(shí),Tomes突尚未形成.

　　外層:可能是成釉細(xì)胞分泌活動(dòng)停止及Tomes突退縮所致.

　　提示: Tomes突形成的重要性.

　　三、釉質(zhì)中有機(jī)物集中之處

　　1. 釉質(zhì)牙本質(zhì)界 enamelo-dentinal junction

　　外形：呈貝殼狀，非直線。由許多圓弧形構(gòu)成，凸面向著牙本質(zhì)，凹面向著牙釉質(zhì)。

　　作用：增大二者的接觸面，加大了釉質(zhì)在牙本質(zhì)上的附著。

　　2. 釉板 enamel lamella

　　光鏡：垂直于牙面的薄層板狀結(jié)構(gòu)，可以貫穿整個(gè)釉質(zhì)的厚度。磨片上呈裂隙狀。

　　原因：可能是局部牙釉質(zhì)成熟的缺陷，鈣化不全，水分和釉質(zhì)基質(zhì)的殘留。

　　3. 釉叢 emamel tuft

　　光鏡：起自釉牙本質(zhì)界向牙表面散開(kāi)，呈草叢狀。其高度相當(dāng)于釉質(zhì)的1/5~1/4

　　分布：較均勻。

　　原因：在Tomes突形成和釉質(zhì)沉積階段，一部分礦化較差的釉柱，有機(jī)物含量高。

　　4. 釉梭 enamel spindle

　　光鏡：起始于釉牙本質(zhì)界，呈紡錘狀結(jié)構(gòu)，黑色。

　　分布：牙尖及切緣部較多見(jiàn)。

　　原因：一般認(rèn)為它是成牙本質(zhì)細(xì)胞胞漿突起的末端膨大突入釉質(zhì)中形成。

　　四.與釉質(zhì)周期性生長(zhǎng)相關(guān)的結(jié)構(gòu)

　　(一)橫紋 cross striations

　　是釉柱上與釉柱的長(zhǎng)軸相垂直的線,透光性低.

　　呈規(guī)律性分布,間隔2~6um.使釉柱看起來(lái)像梯子.

　　原因:

　　與成釉細(xì)胞每天的周期性形成有關(guān),代表每天形成的速度.

　　可能反映釉柱中有機(jī)物、無(wú)機(jī)物在含量和密度上的變化;碳酸鹽和納含量呈周期性變化，與橫紋吻合;

　　可能代表晶體緊密堆積間穿插著有機(jī)物的聚集;礦化低。

　　(二) 生長(zhǎng)線 incremental line

　　橫磨片:呈深褐色同心環(huán)狀,似樹(shù)的年輪。

　　縱磨片:自釉牙本質(zhì)界向外，沿著釉質(zhì)形成的方向，在牙尖部呈環(huán)行排列，近牙頸部部漸成斜行線.

　　原因:

　　是釉質(zhì)周期性的生長(zhǎng)速率改變所形成的間歇線。約代表5~10天釉質(zhì)沉積的速度

　　寬度和間距因發(fā)育狀況變化而不同.

　　新生線 neonatal line

　　定義:在乳牙和第一恒磨牙上,常見(jiàn)的一條加重的生長(zhǎng)線.

　　原因:釉質(zhì)一部分在胎兒期形成,另一部分在嬰兒出生后.

　　電鏡:晶體密度減低.

　　釉質(zhì)的表面結(jié)構(gòu)

　　一、釉面橫紋：perikymata

　　定義:釉質(zhì)表面平行排列并與牙長(zhǎng)軸垂直的淺凹線紋，間隔為30-100微米寬.

　　分布:因磨耗在牙齒頸部較為明顯，成疊瓦狀。

　　原因:是牙呈節(jié)律性發(fā)育的現(xiàn)象，也是釉質(zhì)成長(zhǎng)線到達(dá)牙表面的部位。

　　二、釉小皮：enamel cuticle

　　定義：覆蓋在新萌出牙表面的一層有機(jī)薄膜，一經(jīng)咀嚼即易被磨去，但在牙頸部仍可殘留。

　　原因:其結(jié)構(gòu)與上皮下的基板相似，可能是成釉細(xì)胞在形成釉質(zhì)后所分泌的基板物質(zhì)。

　　三、窩、溝、點(diǎn)隙：

　　窩fossa：不規(guī)則的凹陷，位于切牙和尖牙舌面，磨牙咬合面，似盆地 。

　　溝groove：牙冠軸面或咬合面的細(xì)長(zhǎng)凹陷部分，似溪流。

　　裂fissure：鈣化不全的溝。

　　點(diǎn)隙pit：3個(gè)或3個(gè)以上的發(fā)育溝相交所形成的點(diǎn)形凹陷。

　　臨 床 意 義

　　1. 釉質(zhì)具有一定的代謝活性，當(dāng)其受影響時(shí)，變黑易裂。

　　2. 釉柱排列有一定方向，劈裂釉質(zhì)或制備洞型時(shí)要與之適應(yīng)。

　　3. 咬合面的釉質(zhì)有點(diǎn)隙和裂隙，易成為齲的始發(fā)部位，若早期封閉對(duì)齲病預(yù)防有幫助。

　　4.可用氟化物預(yù)防釉質(zhì)齲的發(fā)生。

　　5.釉質(zhì)表面酸蝕溶解往往與釉柱和晶體的排列方向有關(guān)，無(wú)釉柱釉質(zhì)(晶體排列方向一致)進(jìn)行酸蝕處理時(shí)應(yīng)適當(dāng)延長(zhǎng)時(shí)間。