案例二 污染項目驗收監(jiān)測(電子芯片生產(chǎn)線)
某電子企業(yè)芯片生產(chǎn)線建設(shè)項目,1999年完成“環(huán)評”,環(huán)保局批準建設(shè),2000年7月開工。2002年2月企業(yè)向環(huán)保局提出在原環(huán)評批復(fù)的污水排放量基礎(chǔ)上,增加1000t/d污水排放量的申請,并獲環(huán)保局批準。2003年3月建成并投入試生產(chǎn)。各生產(chǎn)工藝污水中含有氟、氨等污染因子。同時部分污水中含有砷和鎳等污染因子。污水來源、處理及流向見附圖。在建設(shè)項目竣工環(huán)境保護驗收監(jiān)測中,對污水總排放口水質(zhì)監(jiān)測結(jié)果見附表。企業(yè)污水排放執(zhí)行GB8978-1996表1和表4的二級標準:
COD150mg/L,氨氮25mg/L、總砷0.5mg/L、總鎳1.0mg/L、氟化物10mg/L。
附表 該企業(yè)污水總排口污水監(jiān)測結(jié)果(單位:mg/L)
污染物 |
COD |
氨氮 |
氟化物 |
總砷 |
總鎳 | |
第一天 |
1 |
66 |
11 |
15.6 |
0.02 |
0.02 |
2 |
55 |
10.1 |
14.4 |
0.01 |
0.01 | |
3 |
45 |
18 |
17.1 |
0.01 |
0.01 | |
4 |
55 |
11.3 |
15.3 |
0.02 |
0.01 | |
日均值 |
54 |
12.6 |
15.6 |
0.02 |
0.01 | |
第二天 |
1 |
52 |
8 |
10.5 |
0.01 |
0.02 |
2 |
45 |
9 |
18.3 |
0.02 |
0.01 | |
3 |
55 |
9.8 |
15.2 |
0.01 |
0.01 | |
4 |
63 |
1.8 |
20 |
0.02 |
0.01 | |
日均值 |
54 |
9.4 |
16 |
0.02 |
0.01 |
1、該企業(yè)排放的廢水中COD( A )。
A.濃度達標排放 B.濃度未達標排放 C.排放總量達標
D.排放總量未達標 E.是否濃度達標排放無法判斷
2、該企業(yè)排放的廢水中氟化物(A )。
A.濃度達標排放 B.濃度未達標排放 C.排放總量達標
D.排放總量未達標 E.是否濃度達標排放無法確定
3、該企業(yè)排放的廢水中總砷( E )。(未在車間排放口監(jiān)測,故未知濃度是否達標)
A.濃度達標排放 B.濃度未達標排放 C.排放總量達標 D.排放總量未達標
E.是否濃度達標排放無法確定
4、該企業(yè)排放的廢水中總鎳( E )。
A.濃度達標排放 B.濃度未達標排放 C.排放總量達標 D.排放總量未達標
E.是否濃度達標排放無法確定
5、根據(jù)附表所列監(jiān)測結(jié)果,含氟、氨廢水處理設(shè)施(B )。
A.滿足氟達標排放的要求 B.未滿足氟達標排放的要求 C.需要改進
D.處理效率在驗收監(jiān)測中無需考慮 E.對總砷、總鎳達標排放也有明顯的作用
6、根據(jù)附圖和附表所列監(jiān)測結(jié)果,含鎳廢水( E)。
A.已經(jīng)過單獨處理 B.直接排放 C.現(xiàn)處理方式符合要求
D.必須增加處理設(shè)施 E.是否需要增加處理設(shè)施,無法確定
7.含砷廢水( A )。
A.經(jīng)過處理后排放 B.沒有經(jīng)處理排放 C.處理工藝是否合理,無法判斷
D.處理設(shè)施滿足達標排放要求 E.可以與含鎳廢水一同處理
8、檢查砷處理裝置處理效率的監(jiān)測點位應(yīng)設(shè)示意圖中( A )。
A.4#和5# B.4#、12# C.4#、9#D.4#、19# E.4#、7#
9、檢查氟化物處理設(shè)施處理效率的監(jiān)測點位應(yīng)在示意圖中( B )。
A.7#、12# B.9#、12# C.3#、9#D.8#、19# E、9#、19#
10、還必須通過水質(zhì)監(jiān)測確定其是否達標排放的廢水有( C )。
A.氫氟酸廢水 B.酸氣處理塔排水 C.雙氧水廢水
D.粉塵排放處理廢水 E.辦公區(qū)和生產(chǎn)區(qū)生活污水