標準引用

　　本項目為半導體芯片生產(chǎn)項目，主要生產(chǎn)設(shè)備全部由國外引進，主要引進地是日本、美國、荷蘭，其生產(chǎn)過程的氣態(tài)主要污染物較多，經(jīng)污染因子識別與環(huán)評大綱專家討論會意見，從其對環(huán)境影響程度和危害性看，主要有H2S04霧、NOx、氟化物、HCl、C12\非甲烷總烴、氨、H3P04、Sill4、 PH，、AsH30本次環(huán)境影響評價認為，目前半導體芯片行業(yè)在我國與世界各地均是新興行業(yè)，其污染物種類較多，但相應的排放標準尚未界定清晰，我國信息產(chǎn)業(yè)部也正在制定相應的排放規(guī)定、技術(shù)導則和排放標準，作為本項目來說，在我國沒有行業(yè)標準或國家標準之前，部分污染物排放限值執(zhí)行《大氣污染物綜合排放標準》(GB 16297-1996)中的"最局允許排放濃度和最高允許排放速率"新污染源二級標準，氨執(zhí)行《惡臭污染物排放標準》(GBl4554--93)中氨的限值，特征污染物沒有查詢到設(shè)備引進地的排放標準。PH3和AsH3執(zhí)行國家《工業(yè)企業(yè)設(shè)計衛(wèi)生標準》(TJ 36-79)車間空氣中有害物質(zhì)的最高容許濃度0.3mg/m3，H3P04執(zhí)行前蘇聯(lián)車間衛(wèi)生標準1.0mg/m3，SiH4執(zhí)仃歐盟中荷蘭的排放導則中的相關(guān)規(guī)定，具體指標見表6。參考執(zhí)行上述推薦控制標準是可行的，在我國制定有行業(yè)標準或國家標準或其他相應污染物控制標準之后，建設(shè)單位應遵照執(zhí)行。

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