光刻機是一種先進的微電子制造設備，其主要作用是在半導體芯片制造過程中進行微米級別的圖案轉移。近年來，隨著科技的不斷進步，光刻機的制造技術和性能也不斷提升。中國在光刻機技術方面也取得了一定的成就，目前已經能夠實現(xiàn)納米級別的制造。

在光刻機制造的過程中，最關鍵的是光刻膠的制備和圖案轉移技術。光刻膠是一種在光照下能夠發(fā)生化學反應的物質，通過對光刻膠進行光刻，可以將芯片上的電路圖案轉移到硅片上。目前，中國的光刻膠制備技術已經相當成熟，能夠生產出高質量、高精度的光刻膠。

除了光刻膠的制備技術外，光刻機的制造也是關鍵的因素。中國的光刻機制造商已經掌握了核心的技術，能夠生產出高精度、高性能的光刻機。目前，中國的光刻機制造商已經能夠生產出分辨率達到2納米的光刻機。

需要指出的是，要想實現(xiàn)納米級別的制造，不僅需要先進的光刻機技術，還需要一系列配套的技術，如高純度化學品、高精度的測量儀器等。中國在這些配套技術方面也在不斷提升，為實現(xiàn)納米級別的制造提供了支持。

總之，中國在光刻機技術方面已經取得了一定的成就，能夠實現(xiàn)納米級別的制造。未來，中國的光刻機技術將繼續(xù)不斷發(fā)展，為半導體芯片制造提供更加先進的工具和技術支持。